程陽有限公司 SUNNY PROCESS CO., LTD.
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首頁  >  貼霸®真空吸板  >  CMP研磨/晶片大轉小應用
CMP 研磨晶片大轉小解決方案
8 吋機台研磨 6 吋晶圓,無需修改硬體

貼霸® SUNTABA® Flex Membrane是由程陽研發的非黏著式晶圓承載材料,專為 CMP 研磨與晶片大轉小製程設計。物理吸附不需膠材,其彈性緩衝層均勻分散壓力防止破片,讓 8 吋機台免改機直接承載 6 吋晶圓。分離後不殘膠,可重複使用且符合 RoHS 2.0。

研磨破片 大轉小 設備不相容 研磨應力集中 殘膠難清洗
立即諮詢大轉小解決方案

CMP 製程工程師常見難題

設備尺寸不相符

8 吋機台無法直接研磨 6 吋晶圓,改機費用高、停機時間長

研磨應力導致破片

研磨過程中應力集中,薄片晶圓邊緣脆裂、崩角,良率下降

固定後殘膠難清洗

化學黏著劑固定後殘膠不易清除,污染後段製程,耗費大量工時

「貼霸®真空吸板」符合 SGS 的 RoHS 2.0、PFOS、PFOA、無鹵的環保檢測。

貼霸® 彈性緩衝膜 SUNTABA® Flex Membrane

CMP 研磨與晶圓大轉小專用之彈性承載核心

隨著半導體製程朝向高精度、薄型化與多尺寸發展,程陽研發出「貼霸® 彈性緩衝膜 SUNTABA® Flex Membrane」,專為研磨應用而生,透過貼霸® SUNTABA® 與矽晶圓結合,讓不同尺寸晶圓可於既有設備平台上進行研磨、減薄、CMP 等相關製程,可直接導入測試、無需自行準備載體晶圓及貼附材料、縮短開發時間,是兼顧穩定性、設備擴充彈性與 ESG 永續需求的新型態晶圓承載解決方案。

SUNTABA® Flex Membrane 核心技術原理

高吸附 × 彈性緩衝:來自貼霸® 材料的專利設計,特別適合高精度與薄型化的研磨應用。

SUNTABA Flex Membrane 新世代晶圓承載核心:穩定、無殘膠、高擴充彈性,含尺寸轉載解決方案與彈性吸附原理說明
  • 非黏著式吸附:無需化學黏著劑或額外膠材,即可穩固晶圓,分離後不殘膠。
  • 彈性緩衝特性:研磨過程中提供穩定支撐,有效降低應力集中,防止晶圓滑移與翹曲(Warp)。
  • 客製化吸附區域:可依製程需求採用非全面吸附設計,在「吸附力」與「研磨穩定性」之間取得最佳平衡。
  • 高相容性:能直接導入使用,或搭配既有載台、載具、繞性晶圓使用,整合至既有 CMP 設備中,無須大幅修改機台結構即可快速導入。

SUNTABA® Flex Membrane 如何解決晶片大轉小問題?

CMP設備大轉小技術解決方案:SUNTABA彈性緩衝膜讓8吋CMP機台直接研磨6吋晶圓,無需修改硬體,降低改機成本
  • 突破設備尺寸限制:透過將 SUNTABA® 彈性緩衝膜貼附於載體晶圓上,即可在 8 吋 CMP 機台上穩定承載 6 吋晶圓,無需修改硬體設備,大幅降低改機成本。此方法已經過實際半導體製程驗證。
  • 提升製程穩定性:彈性緩衝層均勻分散研磨壓力,確保製程良率與一致性,防止薄片晶圓邊緣破片。
  • 無殘膠設計:晶圓分離後不留殘膠,降低清洗成本與污染風險,完全不影響後段製程。

產品規格

項目規格
產品名稱貼霸® 彈性緩衝膜 SUNTABA® Flex Membrane
尺寸6 吋、8 吋、12 吋
矽晶圓厚度700 μm(0.7 mm)
SUNTABA® 厚度600 μm(0.6 mm)
SUNTABA® 阻抗值10⁵ ~ 10⁸ Ω
吸附設計全亮面(F)、蛇鱗式(S)、圓點式(D)
應用製程CMP、Back Grinding、Wafer Thinning、Laser
客製化服務可依製程需求客製化尺寸與吸附設計,亦可不貼附矽晶圓

吸附設計如何選擇?

三種吸附設計在吸附力與解離性上各有取捨,依製程需求選擇最合適的款式。

吸附設計吸附力解離性適用情境
全亮面(F)★★★★★★★適用厚度較高之晶圓、高吸附需求
蛇鱗式(S)★★★★★★★適用厚度較高之晶圓、高吸附需求
圓點式(D)★★★★★★★★較易取下、降低接觸面積

綠色製造與技術認證

  • ESG 落實:材料可重複使用,降低長期耗材成本與廢棄物產生,協助企業達成 ESG 目標。
  • 符合 RoHS 2.0:PFOS、PFOA 與無鹵環保檢測通過,符合歐盟危害性物質限制令。
  • 發明鉑金獎:程陽自主研發專利材料,已完成多項專利佈局,榮獲「發明鉑金獎」肯定。
8 吋 / 12 吋 CMP 機台適用 支援 6 吋 / 4 吋晶圓承載 耐化學研磨液 符合 RoHS 2.0 無殘膠設計 可重複使用

常見問題 FAQ

Q:8 吋 CMP 機台可以研磨 6 吋晶圓嗎?不改機台可以實現嗎?

可以。透過 SUNTABA® 彈性緩衝膜貼附於 8 吋載體晶圓上,即可在不修改 CMP 硬體設備的情況下,穩定承載 6 吋晶圓進行研磨,大幅降低改機成本與停機時間。此方法已經過實際半導體製程驗證。

Q:SUNTABA® Flex Membrane 如何防止 CMP 研磨破片?

SUNTABA® 採用專利高吸附彈性層,在研磨過程中提供均勻緩衝支撐,有效分散應力集中,防止薄片晶圓邊緣脆裂與崩角,提升研磨良率。

Q:SUNTABA® 使用化學黏著劑嗎?分離後會有殘膠問題嗎?

不會。SUNTABA® 採用非黏著式吸附設計,完全不使用化學黏著劑。晶圓分離後不留殘膠,省去繁瑣清洗流程,降低後段製程污染風險,且耐 CMP 化學研磨液。

Q:SUNTABA® Flex Membrane 有哪些尺寸與吸附設計可選?該怎麼挑?

SUNTABA® Flex Membrane 提供 6 吋、8 吋、12 吋三種尺寸,吸附設計則有全亮面(F)、蛇鱗式(S)、圓點式(D)三種。全亮面與蛇鱗式吸附力較強,適合厚度較高、需要高吸附力的晶圓;圓點式解離性最佳,較易取下且接觸面積較小。可依製程需求客製化尺寸與吸附設計。

Q:可以只購買 SUNTABA® 彈性緩衝膜本體,不貼附矽晶圓嗎?

可以。SUNTABA® Flex Membrane 可選擇不貼附矽晶圓,僅提供緩衝膜本體,方便客戶貼附於自有載體上使用,依製程需求保有更高的客製化彈性。

有製程問題?歡迎直接諮詢
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